小型開啟式管式爐

在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。

PECVD開啟式管式爐系統由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及多通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。

小型開啟式管式爐主要功能和特點：

1、PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等；

2、PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子，就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應；

3、借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜；

4、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，高真空可達0.001Pa；

5、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；

6、每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續均勻性；

7、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；

8、管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；

9、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。

小型開啟式管式爐主要用途：

高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。